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厚(hòu)度影(yǐng)響(xiǎng)因(yīn)素(sù)
1。基片(piàn)材(cái)料與靶(bǎ)材的(dí)晶格(gé)匹配程度
2,基片(piàn)表麵(miàn)溫度
3. 蒸發(fā)功率,速率
4. 真(zhēn)空度
5. 鍍膜時(shí)間(jiān),厚度大(dà)小。
組(zǔ)分均匀(yún)性(xìng)
蒸發(fā)鍍(dù)膜(mó)組分均匀性不(bù)是很(hěn)容(róng)易(yì)保證,具體(tǐ)可(kě)以調控(kòng)的因素(sù)同(tóng)上,但是由於原(yuán)理所限,對於非單(dān)一組分鍍膜(mó),蒸發(fā)鍍膜(mó)的組分(fēn)均(jūn)匀性(xìng)不好(hǎo)。
晶向均匀性(xìng)
1。晶格匹配度
2。 基(jī)片(piàn)溫(wēn)度
3。蒸發速率(shuài)
鍍(dù)膜材(cái)料
編(biān)輯(jí)
氧化物(wù)
一(yī)氧化矽(guī)SiO,二(èr)氧(yǎng)化(huà)矽SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二(èr)氧(yǎng)化(huà)鉿(hā)HfO2,一氧化鈦(tài)TiO,五(wǔ)氧(yǎng)化(huà)三鈦Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二鉭(tǎn)Ta2O5,氧化(huà)釔Y2O3,氧(yǎng)化(huà)鋅ZnO等(děng)高純氧化(huà)物(wù)鍍膜(mó)材(cái)料(liào)。
氟化物(wù)
氟化釹(nǚ)NbF3,氟(fú)化鋇BaF2,氟化(huà)鈰CeF3,氟化鎂(měi)MgF2,氟化(huà)鑭LaF3,氟化(huà)釔(yǐ)YF3,氟(fú)化鐿YbF3,氟化(huà)銣ErF3等高純(chún)氟(fú)化物。
其它化(huà)合物
硫化(huà)鋅ZnS,硒化(huà)鋅(xīn)ZnSe,氮化(huà)鈦(tài)TiN,碳化矽(guī)SiC,鈦酸鑭LaTiO3,鈦酸(suān)鋇(bèi)BaTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鐠PrTiO3,硫化(huà)鎘CdS等真空鍍膜材(cái)料。
金屬鍍膜材料
高純鋁Al,高純銅Cu,高(gāo)純鈦Ti,高純矽Si,高(gāo)純(chún)金Au,高(gāo)純銀Ag,高純銦In,高純鎂(měi)Mg,高純(chún)鋅Zn,高純(chún)鉑Pt,高(gāo)純(chún)鍺Ge,高純鎳Ni,高純鉭(tǎn)TA,金(jīn)鍺合金AuGe,金鎳(niè)合(hé)金AuNi,鎳鉻合金NiCr,鈦(tài)鋁合(hé)金(jīn)TiAl,銅銦镓(jiā)合金CuInGa,銅銦镓硒合(hé)金(jīn)CuInGaSe,鋅鋁合金(jīn)ZnAl,鋁(lǚ)矽(guī)合金(jīn)AlSi等金屬鍍膜(mó)材料
推薦儀(yí)器(qì)UV-2202PCSR
